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美国*MKS流量计马鞍山
我司做mks各类,包括MKS泵,MKS电磁阀,MKS真空泵,MKS马达等等,所有的全部都是从美国*回来!我们在美国华盛顿有,所以有需要这个品牌的客户请!我们有的销售人员可以为您服务!
美国*MKS流量计马鞍山
经营美国MKS流量计、MKS薄膜真空计、MKS流量控制阀,如您对该感兴趣,欢迎!MKS成立于1961年,部位于美国东部波士顿以北的Wilmington。近三千名员工工作在各地十三个,七个研究中心,十个生产基地(其中深圳的ENI电源拥有近500员工)及140多个销售和30多个技术服务中心。MKS前瞻性的创新开发,推动其直处于技术地位。MKS的电源,测量,控制和复杂气体相关的工艺监控技术,改善了设备完率和成品率,提高了生产产量和性能。MKS起源于我们的压力测量和控制核心技术,延伸到材料递送,气体和薄膜成分分析,静电荷控制,工艺控制,信息管理,电源和反应气体发生器及真空技术。MKS主要提供有:气体压力及流量测量和控制,射频/直流/微波电源发生器及测量工具,氟离子/臭氧反应气体发生器,真空,气体分析仪,静电控制及信息和控制技术等。
美国MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作为半导体零部件的,在气体、真空仪器及制程控制应用等方面有技术到之处,美*机仪器MKSInstruments起源于压力测量和控制核心技术,延伸到材料递送、气体成分分析、静电荷控制、工艺控制、信息管理、电源和反应气体发生器及真空技术,其广泛地应用于各种半导体生产设备和过程中。MKS流量计能快速满足客户各种需求;美国MKS包括:美国MKS流量计、MKS薄膜真空计、MKS流量控制阀。
美国MKS流量计、MKS薄膜真空计、MKS控制阀。美国MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作为半导体零部件的,在气体、真空仪器及制程控制应用等方面有技术到之处,美*机仪器MKSINSTRUMENTS起源于压力测量和控制核心技术,延伸到材料递送、气体成分分析、静电荷控制、工艺控制、信息管理、电源和反应气体发生器及真空技术,其广泛地应用于各种半导体生产设备和过程中。MKS流量计是以单位时间内压力体积的流量方式来控制气体质量流量的测量仪器。MKS薄膜真空计、MKS流量控制阀、MKS流量计广泛应用在半导体行业,镀膜玻璃,医药制药行业,生物工程行业,适合各种气体媒介,SICL4硅烷气体等。美国MKS流量计、MKS薄膜真空计、MKS传感器、MKS射频/直流/微波电源发生器MKS氟离子/臭氧反应气体发生器MKS真空,MKS气体分析仪。美国MKS是zui的生产工艺控制设备之,成立于1961年,部位于美国东部波士顿以北的Wilmington。近三千名员工工作在各地十三个,七个研究中心,十个生产基地。
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美*机仪器MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作为半导体零部件的,在气体、真空仪器及制程控制应用等方面有技术到之处,美*机仪器MKSINSTRUMENTS起源于压力测量和控制核心技术,延伸到材料递送、气体成分分析、静电荷控制、工艺控制、信息管理、电源和反应气体发生器及真空技术,其广泛地应用于各种半导体生产设备和过程中。美*机仪器MKSINSTRUMENTS在的主要有AMEC、NMC、SMIC、HYNIX等,针对300MM半导体市场;而美*机仪器MKSINSTRUMENTS的半导体设备零部件的研发和也主要针对300MM半导体工艺要求。同时,美*机仪器MKSINSTRUMENTS还在积极开发太阳能、环境工程和玻璃镀膜等快速发展的市场。美*机仪器MKSINSTRUMENTS电源、测量、控制和复杂气体相关的工艺监控技术等改善了设备的完率和成品率,提高了生产产量和性能,美*机仪器MKSINSTRUMENTS目前主要包括:压力测量和控制系列的电容薄膜压力传感器、模拟和数字压力控制仪器和阀等提供半导体工艺上、下游压力控制设备;质量流量控制器测量和控制半导体工艺中各种高纯度、高精度气体流量;射频、直流及脉冲等离子电源、匹配器及测试工具为半导体工业提供了的固态电源;ASTEXI系列提供诸如用于工艺腔清洁的ASTRON氟离子发生器,用于去胶工艺的R*EVOLUTION等离子源,用于CVD、ALD和清洗的SEMOZON气态和LIQUOZON液态臭氧发生器;另外美*机仪器MKSINSTRUMENTS还提供广泛的真空、气体分析仪、静电控制、控制及信息技术等系列。